全芯智造申请用于OPC建模的方法、设备和存储介质专利，补偿光刻过程中的失真

金融界2025年5月5日消息，国家知识产权局信息显示，全芯智造技术有限公司申请一项名为“用于OPC建模的方法、设备和存储介质”的专利，公开号CN119916656A，申请日期为2025年4月。

专利摘要显示，根据本公开的示例实施例提供了用于光学邻近校正（OPC）建模的方法、设备和存储介质。该方法包括：初始化用于OPC模型的多个核函数，多个核函数至少包括第一类别的核函数和第二类别的核函数，第一类别的核函数指示随距离增加而衰减的光学邻近效应，第二类别的核函数指示随距离突变的光学邻近效应，距离指示目标版图上的目标点和邻近点之间的间距；校准多个核函数；以及基于经校准的多个核函数，构建OPC模型。以此方式，可以构建适用于接触式光刻机的OPC模型，从而可以补偿光刻的过程中的失真，使最终形成的图形更接近设计要求。

天眼查资料显示，全芯智造技术有限公司，成立于2019年，位于合肥市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本18518.5196万人民币。通过天眼查大数据分析，全芯智造技术有限公司共对外投资了7家企业，参与招投标项目56次，财产线索方面有商标信息197条，专利信息183条，此外企业还拥有行政许可5个。

本文源自：金融界

作者：情报员