昆山国力电子申请微波谐振腔场均匀性测量专利，可判断待测器件加工精度

金融界2025年4月9日消息，国家知识产权局信息显示，昆山国力电子有限公司申请一项名为“一种微波谐振腔场均匀性的测量方法及测量装置”的专利，公开号CN 119779128 A，申请日期为2024年12月。

专利摘要显示，本发明公开 了一种微波谐振腔场均 匀性的测量方法及测量 装置，根据非谐振微扰 理论，微扰前和微扰后， 空间中相应位置处的电 磁场会发生改变，这种 改变会反应到电磁场的 反射系数S11，而S11又是一个能够通过矢量网络分析仪探测到 的量。因此，我们可以通过使用矢量网络分析仪测量微扰前后 电磁场的S11值，来判断电磁场变化了多少，进而得出Δ S11值， 根据Δ S11的一致性来判断待测器件的加工精度。

天眼查资料显示，昆山国力电子有限公司，成立于2007年，位于苏州市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本1121.494269万人民币，实缴资本1121.494269万人民币。通过天眼查大数据分析，昆山国力电子有限公司参与招投标项目14次，专利信息12条，此外企业还拥有行政许可2个。

本文源自：金融界

作者：情报员