中国电子工程设计院申请半导体二次配管PID生成方法专利，提高生成灵活性和准确性

金融界2025年5月6日消息，国家知识产权局信息显示，中国电子工程设计院股份有限公司申请一项名为“一种半导体二次配管PID的生成方法及装置”的专利，公开号CN119918809A，申请日期为2025年4月。

专利摘要显示，本发明公开了一种半导体二次配管PID的生成方法，包括：获取用于半导体二次配管作业流程的初始流程数据；基于初始流程数据中各个参数的分布状态，匹配对应的归一化策略，得到标准流程数据；根据对标准流程数据的分析，得到标准流程数据中各个参数的信息量，结合每个参数的初始权重，给出标准流程数据中各个参数的特征权重；结合标准流程数据中各个参数的特征权重，对标准流程数据进行聚类分析，得到流程组件匹配数据；结合流程组件匹配数据，对各个组件进行分析调整，生成半导体二次配管PID。本发明给出的半导体二次配管PID生成方案提高了半导体二次配管PID生成的灵活性和准确性，以满足复杂工业流程的绘图需求。

天眼查资料显示，中国电子工程设计院股份有限公司，成立于1992年，位于北京市，是一家以从事新闻和出版业为主的企业。企业注册资本92427.4508万人民币。通过天眼查大数据分析，中国电子工程设计院股份有限公司共对外投资了35家企业，参与招投标项目5000次，财产线索方面有商标信息29条，专利信息429条，此外企业还拥有行政许可41个。

本文源自：金融界

作者：情报员